金融界2024年3月23日消息，据国家知识产权局公告，武汉理工光科股份有限公司申请一项名为“园区平面图生成三维模型的方法、装置及电子设备“，公开号CN117745940A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明涉及一种园区平面图生成三维模型的方法、装置及电子设备，方法包括：获取目标园区平面图，基于所述目标园区平面图构建三维模型平台，将所述目标园区平面图输入至所述三维模型平台进行参数设置和模型构建操作，得到目标三维模型。本申请提出的方法，用以实现便捷、高效地将园区平面图生成三维模型的目的。

本文源自金融界


                                        
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